ASML最新High-NA EUV光刻机（数值孔径0.55）可支撑1.4nm以下制程，全球仅其能造，单台价格近28亿人民币、重150–180吨，运送需7架波音747，凸显西方在顶级光刻范畴的肯定独占与地缘技能管控才能。

  台积电作为ASML最大客户，清晰推延至2029年才布置该设备，主因全生命周期本钱过高（收购+装置+运维达一般EUV的1.8倍），并依托A13/N2U等新工艺完成平等先进制程，反映高端设备并非技能演进仅有途径。

  我国未盲目对标EUV，而是务实推动28nm浸没式DUV光刻机量产（良率超90%、国产化率85%），同步打破桌面式EUV光源、多束激光直写等原创技能，以老练制程根本盘（占全球需求70%）和全链条自主加快包围。